Le leader mondial des semi-conducteurs, l'américain Intel, a confirmé lundi la construction d'une usine en Chine pour un investissement de 2,5 milliards de dollars (1,9 milliard d'euros). Le groupe avait mis plusieurs pays en concurrence pour implanter sa première usine d'Asie. "La Chine est notre marché le plus dynamique et nous pensons qu'il est important d'investir dans des marchés qui représentent la croissance future pour mieux servir nos clients", a déclaré son PDG Paul Otellini. Intel a indiqué qu'il s'agissait de la première usine, construite de zéro, depuis 1992, date de l'édification de "Fab 10" en Irlande.

La nouvelle usine de micro-processeurs sera implantée à Dalian (province du Liaoning, dans le nord-est), a indiqué Intel dans un communiqué diffusé avant une cérémonie officielle au Grand Palais du Peuple à Pékin. L'usine de Dalian produira des "wafers" de 300 mm, qui, selon Intel, permettent de produire des micro-processeurs à un moindre coût et de manière plus efficiente par rapport aux tranches de 200 mm plus utilisées. "Utiliser la technologie de production des 300 mm consomme 40% d'énergie et d'eau en moins par puce par rapport à une usine 200 mm", précise Intel dans son communiqué.

Le gouvernement chinois avait indiqué récemment avoir donné son feu vert. Le numéro un mondial des semi-conducteurs compte y produire 52.000 puces par mois utilisant la technologie de 90 nanomètres. Pour Pékin, cet investissement servira à dynamiser le nord-est de la Chine, ancien bastion de l'industrie lourde d'Etat frappé de plein fouet par les restructurations provoquées par les réformes économiques. "L'investissement à Dalian aura un impact positif sur le développement économique régional et le développement de l'industrie des circuits intégrés dans la vieille base industrielle du nord-est de la Chine", a souligné Zhang Xiaoqiang, vice-président de la Commission nationale pour le développement et la réforme, le principal organe de planification.